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單晶硅清洗環(huán)節(jié)用超純水設(shè)備有哪些優(yōu)勢?

返回列表 來源:君浩環(huán)保 瀏覽:- 發(fā)布日期:2022-02-14 10:00:27【

單晶硅作為一種半導(dǎo)體材料,用于制造半導(dǎo)體設(shè)備、太陽能電池等。無論應(yīng)用于哪個(gè)行業(yè),都要對(duì)其進(jìn)行加工和清洗。超純水設(shè)備是一種高電阻率、無雜質(zhì)、無導(dǎo)電性的設(shè)備,可滿足單晶硅的清洗要求。

單晶硅清洗超純水設(shè)備采用雙反滲透和EDI拋光混床制水方式。設(shè)備由預(yù)處理系統(tǒng)、反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電脫鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等組成。該設(shè)備有以下幾個(gè)優(yōu)勢:

1.無需酸堿再生

在混床中,樹脂需要用化學(xué)酸和堿進(jìn)行再生,而EDI消除了在床酸和堿再生過程中產(chǎn)生的廢酸和堿的處理和繁重工作,并保護(hù)了環(huán)境。

2.出水連續(xù)穩(wěn)定,操作簡單

在混床中,由于每次再生和水質(zhì)的變化,操作過程變得復(fù)雜,而EDI模塊的產(chǎn)水過程穩(wěn)定連續(xù),水質(zhì)恒定,沒有復(fù)雜的操作程序,操作過程簡化。

3.模塊化設(shè)計(jì)

超純水處理設(shè)備采用積木式結(jié)構(gòu),可根據(jù)現(xiàn)場高度和模塊化設(shè)計(jì)靈活構(gòu)造,使EDI在生產(chǎn)過程中易于維護(hù)。

4.不需要試劑和任何回收的化學(xué)品

不需要中和劑,因?yàn)镋DI膜塊不會(huì)產(chǎn)生酸堿廢液。無需使用任何回收的化學(xué)品進(jìn)行再生,這減少了化學(xué)品運(yùn)輸問題,并降低了系統(tǒng)的運(yùn)行成本。