為什么說(shuō)電子行業(yè)的生產(chǎn)發(fā)展離不開(kāi)超純水反滲透設(shè)備？且看君浩環(huán)保為大家講解。

電子元器件的制造需要大量的純水、超純水，電子工業(yè)用的超純水，例如用于生產(chǎn)計(jì)算機(jī)硬盤、液晶顯示器、半導(dǎo)體、集成電路芯片、顯像管、線路板等用的純水，對(duì)水質(zhì)純度要求較高，對(duì)出水電阻率的要求達(dá)到上（MΩ.cm）級(jí)。這就只有超純水反滲透設(shè)備能達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)了。

電子工業(yè)的發(fā)展對(duì)超純水提出了越來(lái)越高的要求，例如：制作16K位DRAM允許水中TOC為500ppb、金屬離子為1ppb、≥0.2μm的顆粒為100個(gè)/毫升；而制作16M位DRAM時(shí)，則要求TOC<5ppb、金屬離子<0.2ppb、水中≥0.1μm顆粒數(shù)為0.6個(gè)/升。

可以說(shuō)在電子超純水反滲透設(shè)備中，匯集了當(dāng)前水處理的工藝和設(shè)備，如超濾、微濾、反滲透、膜脫氣、電去離子（EDI）等，其中反滲透裝置是整個(gè)純水、超純水制備系統(tǒng)工程中一關(guān)鍵的設(shè)備。它能除去原水中97%以上的溶解性無(wú)機(jī)物質(zhì)、99%以上的相對(duì)分子質(zhì)量大于300的有機(jī)物、99%以上的包括細(xì)菌在內(nèi)的多種微粒和95%以上的二氯化硅。

超純水反滲透設(shè)備所采用的反滲透工藝在純水、超純水制備系統(tǒng)工程中的應(yīng)用，不但增加了產(chǎn)水品質(zhì)，減少了生產(chǎn)成本；而且有效的減少了環(huán)境污染，推進(jìn)了電子工業(yè)的進(jìn)步。

君浩環(huán)保超純水反滲透設(shè)備采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級(jí)處理四大步驟，多級(jí)過(guò)濾、離子交換單元、超濾過(guò)濾器、紫外燈、除TOC裝置、EDI電除鹽裝置、拋光混床單元等多種處理方法，電阻率方可達(dá)18.25MΩ*cm（25℃）。

君浩環(huán)保專注水處理17年，供應(yīng)多種規(guī)格的水處理設(shè)備、超純水反滲透設(shè)備，集開(kāi)發(fā)設(shè)計(jì)、生產(chǎn)銷售、安裝調(diào)試及售后服務(wù)于一體，業(yè)內(nèi)獲有十余年的良好口碑。全國(guó)統(tǒng)一服務(wù)熱線：400-653-6686。